(496) 752-90-18
(495) 543-33-63
vvi@istok.sialuch.ru

Изделия из газофазного вольфрама

Предприятие выпускает трубы, тигли, сетчатые элементы и пр. изделия из вольфрама, методом газофазного осаждения (CVD). Сущность газофазного метода состоит в том, что газовую смесь, содержащую пары летучих соединений, пропускают над нагретой поверхностью, где происходит реакция восстановления или термической диссоциации с образованием металла. Поскольку материал, на который осаждается покрытие, имеет более высокую температуру, чем проходящая над ним газовая смесь, химическое равновесие в газовой фазе нарушается и реакция носит направленных характер. При осаждении из газовой фазы в качестве исходных продуктов используют галоидные соединения, в частности гексафторид вольфрама- WF6. Газообразный WF6 в смеси с водородом подают в реакционную камеру, выполненную в виде трубы из кварца. Подложку, помещенную в камеру, нагревают и над ней пропускают смесь газов.

Отличительные особенности

Основными достоинствами газофазного метода получения изделий являются:

  • возможность получения вольфрамовых осадков высокой чистоты (до 99,999% масс);
  • возможность получения изделий с практически теоретической плотностью (19,3 г/см3);
  • возможность регулирования структуры осадка по его тощине;
  • возможность формирования осадков сложной геометрической формы с высокой степенью чистоты обработки внутренней поверхности;
  • возможность получения изделий и покрытий на основе вольфрама (W-Re, W-Mo, W-Nb);
  • возможность получения вольфрамовых осадков различного изотопного состава.

Примесный состав изделий из газофазного вольфрама

Суммарное содержание примесей в пробе вольфрама (без учета содержания H,C,N,F,P,S,Cl) не более 0,001% масс

Элемент ppm масс Элемент ppm масс Элемент ppm масс
H ND Se <0,02 Eu <0,3
Li <0,001 Br <0,02 Gd <0,5
Be <0,001 Rb <0,02 Tb <0,08
B <0,001 Sr <0,05 Dy <0,3
Na <0,05 Y <0,02 Ho <0,1
Mg <0,05 Zr <0,06 Er <0,2
Al <0,01 Nb <0,06 Tm <0,1
Si <0,1 Mo <0,2 Yb <0,5
K <0,03 Ru <0,02 Lu <0,1
Ca <0,2 Pd <0,02 Hf <0,3
Sc <0,01 Ag <0,1 Ta <0,5
Ti <0,01 Cd <0,1 W ОСНОВА
V <0,4 In <0,1 Re <0,5
Cr <0,08 Sn <0,3 Os <0,5
Mn <0,01 Sb <0,1 Ir <0,3
Fe <0,02 Te <0,2 Pt <0,5
Co <0,01 Cs <0,1 Au <0,2
Ni <0,01 Ba <0,1 Hg <0,4
Cu <0,05 La <0,05 Tl <0,05
Zn <0,02 Ce <0,05 Pb <0,2
Ga <0,02 Pr <0,02 Bi <0,03
Ge <0,02 Nd <0,05 Th <0,03
As <0,02 Sm <0,05 O ND
C ND N,P ND F <15

Характеристики вольфрама

Свойство Значение
Микротвердость, кГ/мм2 430±25
Размер зерна, мкм 100±15
Плотность, гр/см3 19,3
Степень чистоты, %масс 99,999
Сечение захвата тепловых нейтронов (для W184), ,барн 2,0±0,3

Геометрические характеристики:

Трубы

Диаметр 5-300 мм

Длина до 1500 мм

Стенка до 25мм

Тигли

Диаметр до 300 мм

Длина до 350 мм

Стенка до 25мм

Пластины (диски)

Диаметр до 300 мм

Стенка до 12мм

Сетчатые элементы

Диаметр до 100 мм

Длина до 350 мм

Стенка до 5мм

Применение:

  • тигли для высокотемпературной плавки и синтеза;
  • нагреватели высокотемпературных печей и устройств;
  • сетки электронных ламп;
  • тигли для высокотемпературной плавки;
  • распределители газа в высокотемпературных установках;
  • высокочистые мешени магнетронов для микроэлектроники;
  • заготовки для прокатки на высокочистую фольгу;
  • газофазные вольфрамовые покрытия на анодах ренгеновских трубок.